| 日時 |
2009年06月12日 |
| 会場 |
佐賀大学理工学部 6号館 2階多目的セミナー室 |
| 住所 |
〒840-8502 佐賀市本庄町1番地 |
| 交通 |
佐賀駅バスセンターからバスで約20分
佐賀駅からタクシーで約15分
佐賀空港からタクシーで約20分 |
| 地図 Link |
http://www.saga-u.ac.jp/access/ |
| 会場地図 |
http://www.saga-u.ac.jp/map/index.html
キャンパスマップに低平地研究センターと記載されている上の建物2階になります。 |
| 講師 |
Dr. (Ph.D) Arutiun P. Ehiasarian 氏
（英国，Sheffield Hallam University） |
| 演題 |
High Power Impulse Magnetron Sputtering and its Applications
（ハイパワーインパルスマグネトロンスパッタリングとその応用） |
| 講演概要 |
大電力パルスマグネトロンスパッタ法によるグロー放電は高密度の金属イオンが得られ，1990年代より開発が行われてきた技術であり，昨今，トライボロジー特性の大幅な改善など従来成膜技術に変わる新しい成膜技術として注目を浴びてきている。一般にはHiPIMS（ハイピムス）あるいはHPPMS（エイチピーピーエムエス）などと称されている。また，国内ではHPPS（エイチピーピーエス）として呼称されるようになってきている。HiPIMS技術は成膜の際の前処理技術としての有用性も見出されている。Artiun Ehiasarian氏はHiPIMSの開発に当初より携わってきた若手の研究者である。本講演ではHiPIMSの特徴とその応用について解説をする。 |
| 英文講演概要 |
High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) has been introduced in the late 1990s as a unique physical vapour deposition method. The technology utilises magnetron sputtering cathodes and high peak power density of up to 3 kWcm-2 on the target. The plasma produces a metal flux with high degree of ionisation. HIPIMS has been successfully used as a substrate pretreatment method to enhance coating adhesion by promoting local epitaxial growth. As a deposition technology, HIPIMS produces high density microstructure films. It has been industrialised and has successful applications in hard coatings, electronic coatings and optical coatings. |
| その他 |
特別講演会の他，電気学会プラズマ研究会が同会場にて，6月12日から13日まで開催いたしますので，そちらもご聴講下さいますようよろしくお願いいたします。
 こちらから |
| 主催 |
電気学会プラズマ技術委員会 |
| 協賛 |
電気学会九州支部 |
| 問い合わせ先 |
佐賀大学理工学部電気電子工学科
大津康徳
E-mail: ohtsu@ep.ee.saga-u.ac.jp |
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