S4 新しいマイクロ波プラズマの生成と応用の研究動向3月23日午後

S4-1

新しいマイクロ波プラズマ生成と応用 −イントロダクトリートーク−
○菅井秀郎(名古屋大学)
S4-2
低圧および高圧におけるマイクロ波プラズマ生成
○神藤正士(静岡大学)
S4-3
表面波プラズマの放電特性とシミュレーション
○桂井 誠・金 載浩・鳥羽孝幸(東京大学)
S4-4
アンテナ結合とパワー吸収のモデリング
○Ivan GHANASHEV・中井勇祐・E. Abdel-Fattah・菅井秀郎(名古屋大学)
S4-5
高誘電率導入窓によるマイクロ波プラズマの生成
○進藤春雄・草場康太(東海大学)・品川啓介・古川雅一・河村勝文(キャノン販売)
S4-6
マイクロ波プラズマの軸対称アンテナ型励起
○津田 睦・大森達夫(三菱電機 先端技術総合研究所)
S4-7
マイクロ波プラズマの多孔板型励起
○吉田善一(東洋大学)
S4-8
マイクロ波プラズマのラジアルスロット型励起
○八坂保能・古賀一也(京都大学)・石井信雄(東京エレクトロン)・安藤 真(東京工業大学)・山本哲也(山形大学)・高橋應明(東京農工大学)
S4-9
微結晶シリコン薄膜作製へのマイクロ波プラズマ応用
○白井 肇・佐久間喜和・吉野浩一・大河原 豪(埼玉大学)・上山寛之(日本高周波)
S4-10
ダイヤモンド薄膜作製へのマイクロ波プラズマ応用
○永津雅章・牧野雅哉・菅井秀郎(名古屋大学)・丹花通文(東洋鋼鈑)
S4-11
スパッタ薄膜作製へのECRプラズマ応用
○三宅正司(大阪大学)
S4-12
LSI微細加工プロセスへのUHF-ECRプラズマ応用
○板橋直志・森 政士・小藤直行・根岸伸幸・横川賢悦・伊澤 勝・田地新一(日立製作所)
S4-13
表面波プラズマの生成と反応室構造適正化
○加納正明・山崎 修・山内健資・青木克明・山華雅司(東芝 生産技術センター)
S4-14
光源へのマイクロ波プラズマ応用と課題
○井上昭浩(福井工業高等専門学校)
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